UV-LIGA Fertigungsschritte








Ein Wafer (rundes Substrat aus Silizium) wird mit einem Fotolack beschichtet und durch eine Maske hindurch mit UV-Licht belichtet. Die belichteten Stellen des Lackes reagieren unter der Energie des Lichtes und härten aus (Polymerisierung).
 





Anschliessend wird der Wafer entwickelt was die unbelichteten Zonen ablöst. Zurück bleibt eine Struktur die dem Negativ des schlussendlichen Bauteils entspricht.
 





Der Wafer mit den Strukturen wird in einem elektrolytischen Bad galvanisiert. Die Strukturen werden aufgefüllt und das zu erzeugende Bauteil entsteht in seiner rohen Form.
 



In weiteren Schritten werden die Bauteile geläppt, der Wafer und der Fotolack abgelöst und das gewünschte Bauteil bleibt zurück!